«Микрон» активно замещает импортную компонентную базу и материалы
22.05.2025 > Мой Зеленоград
Фото: ОЭЗ «Технополис Москва»
На зеленоградском заводе «Микрон» тестируют первый отечественный фоторезист для фотолитографических процессов с нормами 90 нанометров. Разработка является детищем компании НИИМЭ, которая, как и «Микрон», обладает статусом резидента ОЭЗ «Технополис Москва».
Фоторезист был создан на основе полимера, и входит в число ключевых элементов для производства микросхем по 90-нанометровому технологическому процессу. «Его внедрение обеспечит предприятию независимость от зарубежных аналогов», - рассказал заместитель Мэра Москвы Максим Ликсутов. По его словам, в дальнейшем «Микрон» собирается целиком перейти на российскую компонентную базу в сфере сверхчистых и новых материалов.
Напомним, что этот завод - единственный в России, занимающийся производством микросхем с топологией 180-90 нанометров. Его чипы встроены в банковские карты НСПК «Мир», загранпаспорта, водительские удостоверения, карты «Тройка и «Москвёнок».
Фоторезист был создан на основе полимера, и входит в число ключевых элементов для производства микросхем по 90-нанометровому технологическому процессу. «Его внедрение обеспечит предприятию независимость от зарубежных аналогов», - рассказал заместитель Мэра Москвы Максим Ликсутов. По его словам, в дальнейшем «Микрон» собирается целиком перейти на российскую компонентную базу в сфере сверхчистых и новых материалов.
Напомним, что этот завод - единственный в России, занимающийся производством микросхем с топологией 180-90 нанометров. Его чипы встроены в банковские карты НСПК «Мир», загранпаспорта, водительские удостоверения, карты «Тройка и «Москвёнок».